チラーが使用されるプロセスは？

使用されるプロセス

チラーは、半導体製造装置をはじめとした様々な製造装置のプロセス温度コントロールに用いられます。発熱した装置の冷却や加工部の温度コントロール、材料の冷却といった冷却用途に用いられ、小容量の冷却や一定温度の維持が可能です。
製造装置以外にも、医薬品の製造プロセスにおける冷却や、分析装置の温度コントロールといった用途での使用を想定しています。
下記は半導体製造工場に使用される場合の、イメージの一例になります。

工場用途イメージ

工場では様々な荏原グループの製品が活躍しています

• 工場の空調やユーティリティ水の冷却に用いる冷凍機や冷却塔はこちら。
• 循環液、ユーティリティ水用のポンプはこちら。
• ドライ真空ポンプ、排ガス処理装置、CMP装置といった半導体機器はこちら。

装置用途イメージ

【 用途事例 】

• エッチング装置の静電チャック部の温度コントロール
• 露光装置の光源ユニットの冷却
• ステージ駆動用リニアモータのコイルユニットの冷却
• CMP装置のターンテーブルの温度コントロール
• その他医薬製造ラインや、研究・開発所向け分析装置　等